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金属学报  1992, Vol. 28 Issue (9): 91-94    
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精细TiN陶瓷薄膜的抗拉强度和界面结合强度
刘长清;李美栓;金柱京;吴维(山文)
中国科学院金属腐蚀与防护研究所腐蚀科学开放研究实验室;助理研究员;沈阳(110015);中国科学院金属腐蚀与防护研究所腐蚀科学开放研究实验室;中国科学院金属腐蚀与防护研究所腐蚀科学开放研究实验室;中国科学院金属腐蚀与防护研究所腐蚀科学开放研究实验室
TENSILE AND ADHESIVE STRENGTHS OF FINE TiN FILM ON Ti SUBSTRATE
LIU Changqing; LI Meishuan; JIN Zhujing; WU Weitao (Corrosion Science Lab.; Institute of Corrosion and Protection of Metals; Academia Sinica. Shenyang 110015)
引用本文:

刘长清;李美栓;金柱京;吴维(山文). 精细TiN陶瓷薄膜的抗拉强度和界面结合强度[J]. 金属学报, 1992, 28(9): 91-94.
, , , . TENSILE AND ADHESIVE STRENGTHS OF FINE TiN FILM ON Ti SUBSTRATE[J]. Acta Metall Sin, 1992, 28(9): 91-94.

全文: PDF(548 KB)  
摘要: 采用声发射监测悬臂梁弯曲实验法测量并计算出HCD离子镀法制备的精细TiN陶瓷薄膜的抗拉强度,及其与钛基材界面抗剪切强度(结合强度)值分别是:603MPa,242MPa。
关键词 TiN薄膜抗拉强度结合强度    
Abstract:The cantilever bending test, particularly monitored by an acoustic emission technique, was adopted to measure the tensile and interfacial adhesive strengths of the HCD ion-plated fine TiN film on pure Ti substrate. The behaviours of film damaging were found due to: for TiN facing upward, an exceeded internal tensile stress over its tensile strength, and for TiN facing downward, an exceeded shearing stress along film/substrate interface over its adhesive strength. The measured tensile and adhesive strengths are 603 and 242 MPa respectively.
Key wordstensile strength    adhesive strength    TiN film
收稿日期: 1992-09-18     
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